沈阳腾鳌真空技术有限公司于2009年11月24日在沈阳世昂真空技术有限公司（成立于2004年4月16日）的基础上成立。公司现有员工80余人，占地面积34亩，下设：质量管理部、项目管理部、机械设计部、电器设计部、集成部、加工制造部、采购部、财务部、市场部、售后服务部、综合部等几大部门。公司秉承设计理念、研发经验丰富、具备各类机械设备、真空检测仪器，完全有能力承接各类真空设备的研发制造。 公司致力于真空应用技术的发展和相关仪器设备的研制，主要产品有各类薄膜制备设备（电阻蒸发镀膜、电子束蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、离子束溅射镀膜等）、物理化学气相沉积设备（PECVD、MOCVD、PLD、CVD、LPP等）、真空热处理设备（退火炉、钎焊炉、扩散焊炉等）、真空排气台设备、空间环境模拟设备、同步光辐射光束线各类相关设备、冶金设备、分析测试仪器、真空靶室设备、用户制定各类真空设备、真空阀门、真空器件以及各种非标设备等，承担我国科研机构与大专院校所使用的真空科学仪器的研制与开发任务。 腾鳌真空设备广泛应用于同济大学、浙江大学、华中科技大学、清华大学、武汉理工大学、南开大学、复旦大学、北京师范大学、西安交大等多所高校；中科院高能物理研究...